纳米粒度测量一一全新动态光背散射技术
随着颗粒粒径的减小,例如分子级别的大小,颗粒对光的散射效率急剧降低,使得经典动态光散射技术的自相关检测(PCS)变得更加不确定。40多年来,Microtrac公司一直致力于激光散射技术在颗粒粒度测量中的应用。作为行业的先锋,早在1990年,超细颗粒分析仪器 UPA (UltrafineParticle Analyzer) 研发成功,引入由于颗粒在县浮体系中的布朗运动而产生频率变化的能借概念,快速准确地得到被测体系的纳米粒度分布。2001年,利用背散射(Bak-scatered) 和异相多借勒频移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts) 技术,结合动态光散射理论和先进的数学处理模型,NPA1501/250将分析范围延伸至0.3nm-10um.样品浓度更可高达百分之四十,基本实现样品的原位检测。异相多普勒烦移技术采用可控参考稳定烦率,直接比照因颗粒的布朗运动而产生的频率漂移,综合考虑被测体系的实时温度和粘度,较之干传统的自相关技术,信号强度高出几个数量级。另外,新型“Y"型梯度光纤探针的使用,实现了对样品的直接测量,很大的减少了背景噪音,提高了仪器的分辨率。
Zeta电位测量:
美国麦奇克有限公司(Microtrac lnc.)以其在激光衍射射技术和颗粒表征方面的独到见解,经过多年的市场调研和潜心研究,开发出全新一代Nanotrac wave l微电场分析技术,融纳米颗粒粒度分布与Zeta电位测量于一体,无需传统的比色机,一次进样即可得到准确的粒度分布和Zeta电位分析数据,与传统的Zeta电位分析技术相比,Nanotrac wave l采用先进的“V"型光纤探针光路设计,配置涯电极产生衡电场,提作简单,测量讯速,无需结密准确定位由于电泳和电淡等效应导致的静止层,无需外加大功率电场,无需更换分别用于测量粒度和Zeta电位的样品池,完全消除由于空间位阻(不同光学元影件间的传输损失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差异,分散介质的影响,颗粒间多重散射等) 带来的光学信号的损失,结果准确可靠,重现性好。
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